Große Flächen und höchste Qualität: Ion Beam Sputtering im Fokus

Ion Beam Sputtering (IBS) ist ein physikalisches Verfahren, das zur Herstellung von dünnen Schichten auf Oberflächen verwendet wird. Durch den Einsatz eines hochenergetischen Ionenstrahls werden Atome aus einem Target abgetragen, die sich dann auf einem Substrat (Zieloberfläche) absetzen. Dort bilden sie eine dünne Schicht, die eine Vielzahl von Eigenschaften aufweisen kann.

Ion Beam Sputtering ist in der Halbleiter- und Optikindustrie ein häufig eingesetztes Verfahren, um dünnste Schichten mit hoher Präzision herzustellen. Es wird beispielsweise bei der Beschichtung von optischen Komponenten und zur Leistungsverbesserung von Linsen, Filtern und Spiegeln eingesetzt. Es ermöglicht die präzise Steuerung der Schicktdicke und Schichtzusammensetzung, was es zu einer wichtigen Technologie für die Herstellung von anspruchsvollsten Oberflächenbeschichtungen macht.

Im Rahmen der Veranstaltung werden neueste Entwicklungen und Trends im Bereich des Ion Beam Sputterings von namhaften Vertretern aus Industrie und Forschung vorgestellt und diskutiert. Eine Live-Demo ergänzt das Fachvortragsprogramm.

Das Programm wird fortlaufend aktualisiert und finden Sie hier in Kürze.

Programm

IBS-Beschichtung großer Optiken für herausfordernde Laseranwendungen
Dr. Henrik Ehlers
Laseroptik GmbH, Garbsen

Vortragstitel noch nicht bekannt
Dr. Mathias Mende
Edmund Optics Europe, Mainz

Vortragstitel noch nicht bekannt
Dr. Michael Vergöhl
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, Braunschweig

Vortragstitel noch nicht bekannt
Morten Steinecke
Laser Zentrum Hannover e.V., Hannover

Vortragstitel noch nicht bekannt
N. N.
Cutting Edge Coatings GmbH, Hannover

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